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TW-01恒溫水循環設備:
本設備是由半導體所組成的一種冷卻裝置,利用半導體的帕爾帖Peltier效應。當電荷載體在導體中運動形成電流,此直流電通過兩種不同半導體材料串聯成的電偶時,由于電荷載體在不同的材料中處于不同的能級,所以在電偶的兩端即可分別吸收熱量和放出熱量。當它從高能級向低能級運動時,就會釋放出多余的熱量。反之,就需要從外界吸收熱量,實現制冷的效果。
在恒溫的過程中,半導體制冷片會產生熱能。本設備采用循環水流將熱能導入散熱排散熱,此時熱能會散于空氣之中。反之,另一端就需要從外界吸收熱量,以達到恒溫制冷的更加高效能。
本設備的組成如下:
A、CT-1恒溫處理器:此處理器內建二組芯片,與二組的水道,利用循環水流達到恒溫的效果。
B、CT -2溫度控制器:恒溫的過程中,透過溫度控制器,設定你所需要的溫度,此溫度控制器會控制溫度芯片動作與關閉,以達到所設定的溫度。溫度控制器可控溫10℃到50℃溫度控制,0.1度分辨率。
C、CT -3溫度SENSOR與散熱循環水槽:
在恒溫的過程中,恒溫處理器會產生你所需要的溫度與熱能,分二部份:
1、耐高溫SENSOR:溫度SENSOR位于此結構的下方且為封閉的設計;芯片動作后的水會流至此溫度SENSOR內,SENSOR內所偵測到的溫度會將訊號傳至CT-2的溫度控制器。
2、散熱循環水槽:散熱循環水位于此結構上方,使用前需裝水。恒溫處理器產生的熱能會流至此散熱循環水槽內,水槽內有一馬達,利用水冷卻的方式將循環水帶入散熱排內,達到散熱的效果。
D、CT -4散熱排:將恒溫處理器產生的熱能,利用水冷卻原理將熱能透過馬達導入散熱排內,達到散熱的效果。
E、CT -5開關電源:供應恒溫水浴的電源,耗電量120W;規格:12V/10A。
F、CT-6水槽:50CC燒杯由硼硅酸鹽制造做為專用恒溫水槽,外部再由Neoprene潛水料加以被覆,達到保溫的更加佳效果。
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